邮箱:ldufwb@163.com
地址:山东省烟台市芝罘区红旗中路186号
所属领域:新一代信息技术
成果形式:发明专利
成熟度:研发阶段
转化方式:技术转让
联系人:张登英
成果简介:该成果利用光刻技术制备出所需的单通道母版结构,使用PDMS材料制备出 单通道PDMS诱导模板,然后将诱导模板与基片紧密粘附在一起形成单通道空腔,在空腔一 侧滴入S1813光刻胶,静置2个小时后对其加热,光刻胶发生回流,同时在单通道PDMS诱导 模板的诱导下形成双通道结构,冷却固化并揭掉诱导模板后,就在基片表面上制得了双通道 结构。适用于微流控芯片、生物医药等应用领域。
上一条:一种制备周期减半的亚微米光栅的方法 下一条:一种中空微通道结构的制备方法
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