所属领域：高端装备

成果形式：新技术

成熟度：推广应用阶段

转化方式：设备定制开发及应用推广

联系人：史强

成果简介：纳米级三维激光直写设备，能同时兼顾高精度和高自由度，实现在纳米级精 度上三维结构的自由设计，具有高速度、超分辨、大范围、无限视场等技术优势。主要技术 参数：加工线宽（nm）：>60；单结构成型尺寸(μm）：<300 * 300 * 300；加工幅面 （mm）：<150*150；加工高度（mm）：<2.5；重复定位精度(μm）：>0.001；线性速度 （mm/s）：<30；设备额定功率（kW）：1.2；表面平滑度Ra（nm）：<1；扩展特性：2.5维 衍射光学元件高速算法加工、平面图案一次成型、自动对焦、独立二十五光路同时加工、大 幅面自动成像、10轴飞行联动。