所属领域：高端装备

成果形式：新技术

成熟度：成熟应用阶段

转化方式：技术许可

联系人：朱林伟

成果简介：该成果利用空间光调制器实现无掩膜光刻，不再需要传统的光刻掩膜，大幅 提高了光刻加工的灵活性和效率； 设计的光束调制及加工探测系统实现了高精度的自动对焦 和实时光功率调节， 为光刻加工提供了稳定可靠的技术支持； 克服了传统光刻系统中掩膜制 备、更换和对准等环节带来的繁琐和限制。通过空间光调制技术，本项目实现了无掩膜光 刻，大大简化了光刻工艺流程，提高了加工效率和成品质量。